Ключевые слова: HTS, films, doping effect, chemical solution deposition, substrate LaAlO3, MOD process, fluorine-free process, fabrication, microstructure, polymer
Ключевые слова: MgB2, doping effect, bulk, Jc/B curves, susceptibility, pinning, experimental results, critical caracteristics, magnetic properties
Fang H., Salama K., Zeng J., Hanna M., Alessandrini M., Liang G.(phy_gnl@shsu.edu), Yen F., Lv B., Hoyt C.
Ключевые слова: MgB2/Ti, doping effect, crack formation, Jc/B curves, wires monofilamentary, fabrication, microstructure, critical caracteristics
Ключевые слова: MgB2/Ti, wires, nanodoping, microstructure, Jc/B curves, fabrication, experimental results, critical caracteristics
Xu X., Lin L.Z., Lin Y.B., Gao Z.Y., Dai S.T., Li G., Gong L.H., al. e., Zhang F.Y., Fang Y.F., Teng Y.P.
Ключевые слова: HTS, cables three-phase, cables warm-dielectric, Bi2223/Ag, tapes, fabrication, test long-term operation, cables coaxial, power equipment
Grasso G., Modica M., Musenich R., Fang H., Salama K., Alessandrini M., Marabotto R., Penco R., Nardelli D., Tassisto M., Liang G., Chang Diaz F.R.
Ключевые слова: MgB2/Cu-Ni, tapes multifilamentary, coils solenoidal, fabrication, quench properties, power equipment
Ключевые слова: HTS, YBCO, bulk, fabrication, precursors, powder metallurgy
Ключевые слова: HTS, YBCO, REBCO, buffer layers, chemical solution deposition, substrate SrTiO3, substrate LaAlO3, texture, coated conductors, new
Ключевые слова: HTS, YBCO, coated conductors, buffer layers, substrate LaAlO3, chemical solution deposition, MOD process, microstructure, fabrication
Li G., Zhao Y.(yzhao@swjtu.edu.cn), Cheng C.H., Shen T.M.
Ключевые слова: MgB2/Cu, phase formation, fabrication, phase diagram
Li G., Zeng X.H.(xhzeng@sjtu.edu.cn), Yao X., Hu J., Zhang Y.L.
Ключевые слова: HTS, YBCO, YBCO, bulk, fabrication, REBCO, films thick, seeding technique, microstructure
Wozniak U., Linker G.(Gerhard.Linker@ifp.fzk.de), Geerk J.(Jochen.Greek@ifp.fzk.de)
Ключевые слова: HTS, YBCO, coated conductors, buffer layers, substrate Ni, substrate Ni-Cr, SOE process, magnetron sputtering, microstructure, fabrication
© Copyright 2006-2012. Использование материалов сайта возможно только с обязательной ссылкой на сайт.
Свои замечания и пожелания вы можете направлять по адресу perst@isssph.kiae.ru
Техническая поддержка Alexey, дизайн Teodor.